Matcher Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.

2019.07.22 10:20

Seong 조회 수:5643

다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4973
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16325
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51258
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63783
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83590
380 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6444
379 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6322
378 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6321
377 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6288
376 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6192
375 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6187
374 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6158
373 자료 요청드립니다. [1] 6022
372 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 5945
371 저온 플라즈마에 관해서 [1] 5943
370 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 5886
369 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 5871
368 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 5781
367 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5764
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5643
365 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5641
364 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5615
363 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5306
362 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5117
361 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5043
쓰기
태그

Boards

XE Login