질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:88025 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74885
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18737
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56224
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66690
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88025
418 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7623
417 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7448
416 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7331
415 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 7044
414 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6754
413 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6527
412 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6499
411 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 6423
410 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6407
409 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6365
408 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6361
407 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6315
406 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6312
405 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6277
404 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6263
403 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6191
402 자료 요청드립니다. [1] 6117
401 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6032
400 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5914
399 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5788
쓰기
태그

Boards

XE Login