Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:2023

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films31(5), 050825.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76886
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20282
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57200
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92712
379 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2287
378 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2275
377 etching에 관한 질문입니다. [1] 2274
376 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2265
375 플라즈마볼 제작시 [1] file 2250
374 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2250
373 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2247
372 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2179
371 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2150
370 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2145
369 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2097
368 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2083
367 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2083
366 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2074
365 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2034
364 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2023
» 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2023
362 chamber impedance [1] 2016
361 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2015
360 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1990

Boards


XE Login