질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:96356 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82779
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21990
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58770
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70402
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96356
344 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1783
343 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1764
342 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 1754
341 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1751
340 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1743
339 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1742
338 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1716
337 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1710
336 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 1700
335 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1694
334 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1686
333 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1669
332 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응] [1] 1662
331 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1657
330 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1636
329 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1631
328 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1627
327 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1616
326 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1603
325 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1595
쓰기
태그

Boards

XE Login