질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:111195 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111497
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27841
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65113
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76929
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111195
276 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1595
275 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1591
274 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1587
273 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1576
272 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1569
271 플라즈마 기초입니다 [Breakdown과 electrolysis] [1] 1567
270 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1566
269 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1559
268 RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning] [1] 1545
267 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1545
266 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1545
265 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1533
264 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1529
263 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1528
262 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1527
261 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1527
260 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1519
259 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 1514
258 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1508
257 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1501

Boards


XE Login