질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:93631 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20847
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
259 Group Delay 문의드립니다. [1] 1187
258 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1181
257 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1177
256 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1163
255 자기 거울에 관하여 1158
254 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1157
253 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1144
252 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1140
251 Plasma Arching [1] 1138
250 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1134
249 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1130
248 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1120
247 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1099
246 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1096
245 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1091
244 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 1084
243 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1082
242 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1080
241 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1074
240 anode sheath 질문드립니다. [1] 1072
쓰기
태그

Boards

XE Login