질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92988 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77301
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20496
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68946
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
30 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 151
29 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 149
28 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 148
27 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 141
26 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 137
25 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 131
24 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 130
23 플라즈마 설비에 대한 질문 123
22 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 115
21 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 104
20 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 101
19 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 99
18 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 93
17 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 91
16 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 89
15 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 89
14 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 83
13 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 79
12 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [1] 75
11 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 68

Boards


XE Login