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2023 KVS 유도 결합 플라즈마의 변압기 회로 모델 기반 용량성-유도성 전력 결합 특성 해석 2023 KAPRA & KPS/DPP Enhancement of Sputtering Yield on Tungsten with Argon Ion Fluence 2022 1st International Fusion and Plasma Conference Plasma information based Advanced Process Controller for Plasma Etch Process 2022 KAPRA & KPS/DPP 고종횡비 식각 공정의 표면 식각/증착 반응 모델 적용 플라즈마 정보 인자 기반 하드 마스크 넥킹 가상 계측 기술 개발 2021 AEC/APC Symposium Asia 2021 Development of Si Etch Profile Virtual Metrology using Plasma Information(PI-VM) in SF6/O2/Ar Capacitively Coupled Plasma
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PEALD 챔버 세정법 2025-03-11 14:29 이상원 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 1 2025-02-19 09:50 김성필 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 2 2025-01-21 22:23 박현수 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. 2 2024-12-31 13:56 박민석 III-V 반도체 에칭 공정 문의 1 2024-10-28 12:44 이원용 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 1 2024-10-26 23:18 정구민 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 1 2024-10-22 10:22 이진솔 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] 1 2024-10-16 13:24 안지훈 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 1 2024-10-11 21:29 김도연 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 1 2024-09-18 10:39 서아리
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