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2023 KVS 유도 결합 플라즈마의 변압기 회로 모델 기반 용량성-유도성 전력 결합 특성 해석 2023 KAPRA & KPS/DPP Enhancement of Sputtering Yield on Tungsten with Argon Ion Fluence 2022 1st International Fusion and Plasma Conference Plasma information based Advanced Process Controller for Plasma Etch Process 2022 KAPRA & KPS/DPP 고종횡비 식각 공정의 표면 식각/증착 반응 모델 적용 플라즈마 정보 인자 기반 하드 마스크 넥킹 가상 계측 기술 개발 2021 AEC/APC Symposium Asia 2021 Development of Si Etch Profile Virtual Metrology using Plasma Information(PI-VM) in SF6/O2/Ar Capacitively Coupled Plasma
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HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. 2 2024-12-31 13:56 박민석 III-V 반도체 에칭 공정 문의 1 2024-10-28 12:44 이원용 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 1 2024-10-26 23:18 정구민 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 1 2024-10-22 10:22 이진솔 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] 1 2024-10-16 13:24 안지훈 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 1 2024-10-11 21:29 김도연 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 1 2024-09-18 10:39 서아리 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. 1 2024-09-10 22:27 남정빈 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. 1 2024-09-05 12:35 이준환 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] 1 2024-08-22 13:20 도예준
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Plasma Application Laboratory, building 30, room 102, 1, Gwanak-ro, Gwanak-gu, Seoul, Republic of Korea
Department of Energy System Engineering (Nuclear Engineering), Seoul National University
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